(1)经处理后的基布制作的反光布，外观均匀、细腻，疵点少，微珠呈现水平排布；反光布上反光膜层的成膜性和坚牢度增强了，微珠耐洗牢度提高了，皮膜与基布的抗剥离性解决了，对表面粗糙的基布制作的反光布明显提高了Ｒ’值。

表2基布处理对制作的反光布性能的影响

注：反光强度R’单位：cd/Lx/m２，其他单位同表1；R10，：表示样品洗涤10次以后的反光强度值。

(2)1号基布经过前处理后制作的反光布，除了表现在外观的改善方面外，主要是经过A工艺处理以后，解决了成品的耐洗涤剥离性能。

2.2反射体的设置

2.2.1反射体的选择

玻璃微珠背面设置反射体，目的在于将经过微珠折射后的入射光，尽可能多地通过反射体返回微珠内，然后再经微珠折射后返回光源处。这种反射体有各种各样类型、规格，我们进行了筛选试验，其对定向反光强度的影响结果列于表3。

从表3中可以看出，微珠背面不设置反射体，反光强度极低，而设置了反射体的则随着不同反射体有不同程度的提高。从反光体1＃—4＃的基布基本上可以看出，随着镜反射比的提高，定向反光强度呈上升趋势。反射比较高者提高较多。但太高则由于布面光滑难于涂覆粘合剂。从图3更直观地看出，反光强度随镜反射比的提高而提高，但提高幅度不同，从近乎100%漫反射状态到有镜面反射时反光强度提高迅速，当镜面反射比提高到一定程度后，反光强度提高明显缓慢。

表3基材镜反射比与产品反光强度的关系表(R，：cd/Lx/m２)

在织物上设置反射体除考虑产品的亮度外，还应考虑设备因素、加工的可行性、产品的综合性能指标、成本等，因此，选择４＃反射体比较适合。

2.3.2反射体用量对反光强度的影响

从理论上讲反射体用量越多，反射层越光亮，产品的反光强度越高。但在试验中发现：反射体用量增至一定程度后，反光强度反而下降，并出现产品粘结牢度下降，表现为加工困难，产品不耐洗涤，微珠脱落等问题。如图4所示，反射体用量有一最佳值，在该值范围除反光强度高外，产品的其它性能也很好。