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新型抗皱整理

来源:印染在线 发布时间:2009年06月01日
最近,国外将具有碳硅多面体结构的化合物(Poss)引入到聚氨酯体系中,形成了新的纳米复合材料,表现出一系列新的性能。将类似Poss结构的化合物引入到树脂中,在形态记忆整理方面具有优良的性能,尤其对免烫整理中避免强力降低具有显著效果。 将笼状化合物引入到氟碳聚合物高分子上,形成带笼状结构的氟碳聚合物体系,由于笼状结构内部可以捕捉带有阴离子的化合物,因此对染料具有优良络合性,将笼状化合物与染料混合能很好地限制染料的上染,尤其是在精细印花过程中,具有良好的防沾色效应。 国外推出的纳米材料Perfin 03产品也是类似的化合物,从免烫效果看,加入Perfin 03后,耐久压烫性能、强力、甲醛释放量都得到理想的结果.

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