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由表1可知，经低温等离子处理后，一C=O和一C H 一等基团与纤维自身的基团相吻合，但增加了～COH基团，这一基团提高了芳纶纤维的表面活性，对于提高芳纶布与橡胶的粘接性是有利的。
2．2 F丁一IR分析
i 为了进一步了解低温等离子处理前后芳纶布表面基团蛮 的变化情况，对处理前后的芳纶布进行了FT—IR分析，见图1(等离子处理时间为1 0 min)。
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对比2图可知，除了在3 300 cm。。的吸收峰有明显差异外，2曲线 几乎相同。3 41 5 cm。。和1 525 cm 的吸收峰是由仲酰胺的N—H弯曲振动形成的，1 655 cm。 的吸收峰为仲酰胺的C=O伸缩振动峰，1 300 cm 的弱峰为仲酰胺的C；N吸收峰，1 275～960 cm 间的吸收峰和900 cm。‘以下的吸收峰是由芳环取代而形成的。处理后的FT—IR图在3 300 cm。 吸收峰处强度有了很大幅度的提高，这一吸收峰的出现表明等离子处理后，芳纶布表面引入了一0H。芳纶布在等离子处理过程中，活性粒子轰击芳纶纤维表面，使其表面化学键打开并与等离子体中的氨、氧等自由基结合，可能形成一OH、一CO0H、一NH，等活性基团。 本实验中芳纶表面只形成了一OH可能是受处理条件影响，没有足够的能量活化N，或使一OH进一步氧化为一C00H。
2．2芳纶纤维表面形态
芳纶纤维在不同处理时间条件下表面形貌的SEM照片，见图2。
图2-a中，芳纶纤维表面有很多毛边和杂物，其实质为芳纶纤维纺丝和芳纶布预处理过程中，纤维表面吸附的处理液、灰尘等杂物。图2一b，C，d表面均无明显杂质，这是由于等离子处理过程中，吸附物脱落。E]2-b~，纤维表面的缺陷不明显，但随着处理时间的延长，纤维表面的缺陷开始增多，其表面粗糙度逐步增加，如图2一c：~ndqh箭头所指。当处理时间延长到2O min1]~，纤维表面的缺陷又减小。这是由于时间过长反而使纤维表面的缺陷被等离子轰击掉，从而使纤维表面又变得光滑。
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