1．4．2分影还原同浆印花工艺
目前，该工艺主要应用于军用防红外线迷彩服的印制。许多国家将防红外迷彩技术用于军队装备，不同国家、不同兵种、不同环境，其对防红外线参数要求各不相同。防红外线迷彩服一般要求白天可以靠颜色达到伪装效果，而夜晚要求其对红外线的反射率接近红外线对环境的反射值，以达到伪装的效果。过去也曾采用全涂料印花工艺或分彩活性同浆印花工艺，但产品在透气性、色牢度性能，以及夜间防红外线性能等方面均不能满足要求。
该工艺中，还原剂和强碱剂对分散染料有影响，因此不宜采用一相法印花固色法，而应采用两相法印花固色法，即先汽蒸或焙烘，使分散染料固着，然后浸轧氢氧化钠褓险粉还原液快速汽蒸，使还原染料在棉纤维上固着。织物经还原液处理，还能将沾污在棉纤维上未固着的分散染料清洗去除，提高色泽鲜艳度。
印花色浆处方／(g／kg)
分散染料x
温水适量
还原染料Y
水适量
醚化植物胶／海藻酸钠500～600
先用少许温水润湿分散染料，然后边搅拌边加温水使其分散。还原染料先用少许冷水润湿，边搅拌边缓慢加水，调成浆状，最后成为染料悬浮体溶液。将分散染料和还原染料的悬浮体溶液。在不断搅拌下，分别加入到印花糊料中。
碱性还原液处方
保险粉／(g／L) 80—100
氢氧化钠(30％)／(mL／L) 100—140
碳酸钠／(g／L) 40—60
水x
Invadin LDN／(g／L) 3
淀粉糊／(g／L) 100
硫酸钠／(g／L) 50—100
工艺流程印花-烘干-高温常压(170—180℃，8 min)或焙烘(190—200 ℃，1．5—2 min)-浸轧碱性还原液-快速汽蒸(128—130℃，20—30 s)- 冷水溢流冲洗-双氧水氧化(50～60℃)一皂洗-水洗-烘干
注意事项
(1)印花糊料要求遇强碱能迅速凝聚，否则浸轧碱性还原液时，花纹有渗化现象。通常采用海藻酸钠、醚化淀粉和甲基纤维素等或其拼混物。
(2)织物浸轧碱性还原液后，应立即快速汽蒸。离开快速蒸化机后，织物上的还原染料已被还原成隐色体染着棉纤维，必须立即在平洗机上冲淋，而后进入氧化浴中，将隐色体氧化转变成不溶性染料固着在纤维上。
(3)在波长700一l 200 nln下，迷彩服上每种颜色都有对应的红外线反射曲线参数。棕色的红外线反射曲线与沙漠相近，浅棕色与黄土的红外线反射曲线相近，绿色与叶绿色的红外线反射曲线相近等。因此，染料拼色时，应根据染料的色光和红外线反射曲线两项因素选择染料。若达不到红外线反射曲线范围，可加适量的涂料黑，因为碳黑有较好的红外线吸收能力。
2 防印印花工艺
防印印花就是在印花机上利用罩印的方法，达到防染印花的效果。根据花型要求，可分为一次印花(湿法罩印)和二次印花(干法罩印)，实际应用以一次印花为多。防印印花工艺是在防染印花工艺的基础上发展起来的。当花型面积过大时，防染剂容易落入轧染槽而破坏轧染液，造成防染困难。因此在印花机上以一般色浆罩印在另一种含防染剂的色浆后，达到防止罩印处一般色浆发色的防印印花效果。
防印印花机理与防染印花相同。但防印印花过程短，印花和防染在印花机上一次完成，质量比防染印花稳定，易控制，且工艺灵活，一个花型可设计多种防印工艺，既可机械防印也可化学防印，既可局部防印也可全面防印，这些特点为其它工艺所不及。目前，防印印花工艺已被广泛使用。
防印印花主要适用于以下几种情况：
(1)花型相碰的各色是相反色，且不允许产生第三色。
(2)印制比地色浅的细勾线、包边。
(3)由多种色泽组成，并具有固定轮廓的花型，仅靠对花很难印制出连续光滑的轮廓。
(4)印制深浅倒置的花样，且不希望配置两套筛网(或花筒)。
(5)印制深满地精细小花，印花织物较稀松。防印印花对于精细线条、点子和云纹，很难获得稳定的防印效果，因此印制效果不及拔染印花。常用的防印工艺介绍如下。
2．1 机械和化学半防活性染料印花
采用防染剂(白涂料)或三乙醇胺，以降低活性染料的固色率，从而获得多层次的印制效果，工艺简便。半防色浆处方／(g／kg)
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