直接涂层工艺-纺织技术中心 - 纺机网

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直接涂层工艺

来源：印染在线　发布时间：2012年05月09日

⑵　工艺流程和条件：半制品→预处理→底涂→烘干→第二次涂遮光层→烘干→第三次涂表层→烘干
　　工艺条件：预处理，预防水(处方同前)，烘干或平轧光。
　　涂层：
　　底涂：用浮刀法锐角刮刀。
　　第二次遮光层：用浮刀法圆形刮刀，必要时可重复一次。
　　第三次表层：用浮刀法锐角刮刀。
　　烘干：90～100℃。

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