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[供应] 原子吸收光谱仪
 
发布公司:健豪仪器股份有限公司
 
发布日期:2008/1/20 0:12:00
 
  详细说明
 
检测项目:重金属含量检测 Determination of heavy metals

生产厂商:美国瓦里安公司

美国瓦里安公司原子吸收光谱仪用于织品中重金属离子的测试,把试样分别用模拟酸性汗液、碱性汗液和唾液进行萃取,将萃取液放在该仪器里,在相应的光谱波长处测量其吸光度,扣去空白,对照标准工作曲线确定各重金属离子的含量,计算出试样上各重金属离子的含量


标准:GB/T 17593

产品特性:
1)性能卓越的光学系统特有的窄光束设计使光束集中,光度强。
双光束设计结合旋转光束合成器(RBC)可使光通量相对于传统的光束器提高一倍。
整个无透镜全反射的光学系统固定在坚固的铸铝基座上,完全密封,并可用气体进行吹扫,彻底防尘,耐腐蚀,光学器件均采用石英涂层,仪器使用寿命长,长期稳定型好。
独特的固定灯座,反射镜旋转元素灯的设计,保证选灯速度快,提高光源稳定性,并且具有元素灯自动预热功能,可延长灯的寿命。

2)高效的背景校正技术
高强度的氘灯背景校正技术,提供2毫秒的快速响应,确保瞬时背景信号的准确扣除,而且不需要打开仪器外壳即可方便地进行调节和更换氘灯。 Varian专利的塞曼背景校正技术可在每秒钟采集100/120个数据点(50/60Hz),其响应延迟时间小于5毫秒。

3)SpectrAA-Duo世界上唯一能够实现火焰和石墨炉原子吸收同时分析的仪器
SpectrAA-Duo火焰和石墨炉原子吸收具有独立的光路和检测系统,无需转换火焰和石墨炉原子化器,由一套软件完成全自动控制,同时进行火焰和石墨炉原子吸收分析。
提高工作效率,可以使实验室在不增加实验经费的情况下,工作效率成倍提高,节省宝贵的时间。
配置选择更加灵活,可以根据实际情况,选择不同数目灯位,不同背景扣除方式(氘灯和Zeeman)。
可测样品范围广,通过火焰和石墨炉原子化系统可完成从ppb到百分量级多种元素分析。便于优化实验条件,火焰和石墨炉经过优化参数后,由于无需转换,下一次测定时无需重新调整,节省时间。

4)SpectrAA-220FS分析速度最快的原子吸收光谱仪
SpectrAA-220FS在一个样品进样时顺序测定样品中多种元素,比传统的原子吸收光谱节省40%的样品消耗和50%的时间消耗,在2分钟内就可以测定10种元素,达到类似扫描型原子发射光谱的高工作效率。

5)SIPS—创新的智能化在线样品导入和稀释系统由一个标样自动配置多达10点标准,并完成工作曲线。
快速自动稀释超标样品,扩展工作范围,是AAS达到相当于ICP的线性工作范围,5个数量级。
在线标准加入和加入改进剂,节省大量溶液制备和稀释的时间。

6)技术领先的火焰原子化系统
Mark—7燃烧头采用新型合金材料,耐腐蚀性更强,通过CAD优化设计,进一步提高燃烧头的散热效果,使其更适用于高含盐量和有机样品的测定,不易出现燃烧头阻塞和积碳现象,保证了极好的长期稳定型,燃烧头基座上的Teflon涂层极大地提高了其防腐能力。
可调式雾化器适用于所有溶剂,根据不同样品类型调至最佳雾化效率。
外部可调式撞击球使操作者容易调节灵敏度和精度,并可配耐HF的Teflon撞击球。
安全联锁系统可防止在非安全状态下点火,可在出现操作失误时立即熄灭火焰。
雾化室的清洗维护不需要任何工具,简便易行。
双头扰流器的设计,进一步均匀、细化雾滴,提高雾化效率,降低堵塞燃烧头的概率,优化检测结果。

7)杰出的石墨炉性能
使用稳定温度区域控制技术(CTZ),保证石墨炉纵向加热均匀、快速、低负载。
专利的动态反馈温度控制系统使得石墨炉的温度控制精确,重现性好。
优化的惰性气体流量控制延长了石墨管的使用寿命,降低了操作成本。
即使是难熔元素,也可使其记忆效应降至最小。
石墨炉的高灵敏度,可提供极低的检出限。

8)灵活多样的可选附件
VGA-77全自动汞/氢化物发生器提供极高的灵敏度和精确度,可用积分测量,分析速度达每小时70个样品。
SPS-5自动进样器可容纳500个试管位,并具有多种样品架以满足不同自动进样需求。
高强度空心阴极灯UltrAA光源可使灯的发光强度提高3-5倍,灵敏度提高40%,寿命超过8000毫安小时,降低检出限。

技术规格



SpectrAA 50/55/558 
SpectrAA 110/220
SpectrAA 220FS 
SpectrAA 220Z

仪器特征
仪器键盘控制2个灯位,手动选择灯位,50为单光束,55位双光束原子吸收光谱仪 
外部计算机控制,4个灯位,自动或手动选择灯位,110为单光束,220为双光束原子吸收光谱
全自动双光束的快速序列式原子吸收光谱仪,4个灯位
外部计算机控制,使用赛曼背景校正石墨炉技术的原子吸收光谱仪,4个灯位

光学系统
窄光束设计。光学系统完全蜜蜂,光学器件采用石英涂层,使用旋转光学合成器(RBS)最大限度提高光通量。

波长范围
185—900nm


单色器 
0.25m Czerny-Turner单色器由计算机自动控制选择波长
同SpetrAA 220

狭缝
自动选择狭缝0.2,0.5和1.0nm,并可设定高、低狭缝
同SpetrAA 220

背景校正
高强度氘灯背景校正(SpectrAA 50/55为选件),在185—425nm范围内吸光度达2.3Abs,响应时间为2ms,带有自动衰减的调节功能,用户可方便地校准或更换
交流横向赛曼背景校正,0.8特斯拉调制磁场。多项式插入法拟合数据背景校正响应时间小于5ms。赛曼背景校正满足整个波长范围,校正强度可达2.5Abs

气体控制
自动气体类型切换,预制氧化气体流量,手动改变燃烧气流
自动气体类型切换或是由pc控制的全自动气锤式可编程气流控制,(SpectrAA 220FS/880的标准配置)

气体控制
自动气体类型切换,预制氧化气体流量,手动改变燃烧气流 火焰原子化系统 使用于水溶液和有机溶剂的通用型Mark 7系统作为仪器标配,配有可拆的双头扰流器,保证进一步细化雾滴;外部可调的玻璃撞击球,方便灵敏度的最佳化,可选耐HF的Teflon撞击球,可调节的雾化器配有防腐蚀的惰性铂/铱合金毛细管和PEEK文丘里管。内置的液井带有电磁浮动联锁装置。可在外部旋转调节的特殊合金燃烧头配有Teflon防腐蚀屏蔽膜,灵敏度指标为5ppm Cu>0.75Abs,精确度<0.5%RSD

石墨炉
带“恒温区”的全自动控制石墨炉,带有动态反馈温度控制的冷却水系统保证了炉温精确控制
赛曼背景校正的带“恒温区”的全自动控制石墨炉,带有动态反馈温度控制,保证炉温的精确控制

石墨炉特性
每个程序可设定多达20个温度步骤,在40—3000度范围内可进行程序升温,最大升温速度为2000度/秒,可选择两种惰性气体,气体流速可在0—3.1L/min范围内编程,最小增量为0.1L/min。石墨管在2600度下的操作寿命大于1000次。

石墨炉自动进样器
自动进样器可放置50个2ml样品瓶和5个25ml样品瓶,可由同一个样品自动配置多达10个浓度的溶液或标准校正曲线。可自动添加两种基体改进剂,预进样或与样品一起进样。具有自动减少超标样品进样体积功能。为了增加灵敏度可多次进样达99次,对于快速分析,可进行“热进样”,进样速度和温度在40—200度范围内编程。1L加压的清洗瓶用于进样针的清洗,每次进样后油分配毛细管自动导入清洗液清洗。


 
 
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