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热真空箱试验箱装配3个仪表引线孔、2个电力配线孔（用户说明位置）、1个D.C连接孔、1个R.F连接孔，内径均为8英寸。试验箱放置在一个碳钢底座上，由管架结构支撑（管直径为2英寸，该设计的用意为分散箱体重量）。管架结构带有永久性水平脚，地垫直接铆钉到地...

薄膜沉积系统 Nanochrome TM II 采用了垂直“翻盖式”箱体设计，这使得试验箱的所有部件都很方便操作。水冷却/加热的痕迹（traces）加快抽水次数。在操作的同时，您可用潜望镜装置清晰地观察物理气相沉积的来源...

离子束反应溅射系统 Intlvac的Nanoquest系统是薄膜和材料研究的一个通用研发平台.该系统是直径为4”单基板的最优选择. Nanoquest平台可允许:离子束蚀刻, 离子束溅射,离子辅助蒸发,以及离子辅助溅射都在同一平台上运...

离子束刻蚀系统离子束刻蚀系统：离子束刻蚀系统是为无尘室操作而设计的，Nanoquest II使得蚀刻模块始终呆在无尘室的服务区内。系统元件，如防护物和其他耐用部件，很容易在服务区存取。双门蚀刻模块可以使维修从试验箱的任何一侧开始。UHV设计...

负载离子束蚀刻&沉积系统 The INTLVAC Nanoquest I负载离子束蚀刻&沉积系统是最普遍的离子束研发平台。可以独立控制的离子能量，离子电流密度与入射角，离子束加工是最可控的薄膜刻蚀和沉积技术。能够做从简单的惰性蚀刻到一个...

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